Gatan 아르곤 이온 광택 시스템 Ilion II 697

제품 기능 소개:

아르곤 이온 광택 시스템은 샘플의 단면 제조 및 평면 광택을 위한 데스크탑 형 샘플링 장비로서 샘플이 SEM 및 기타 장치에서 검사 분석될 수 있도록 합니다.IlionII를 이용하여 광택 가공을 할 수 있는 재료의 종류는 다원소로 구성된 시료와 서로 다른 기계적 경도, 크기, 물리적 특성을 가진 합금, 반도체 재료, 폴리머와 광물 등 매우 광범위하다.예를 들어 용접 단면, 집적 회로 용접점, 다층 박막 단면, 입자, 섬유 단면, 복합 재료, 세라믹, 금속 및 합금, 암석 광물 및 기타 무기 비금속 등 각종 재료의 SEM, EBSD 샘플.

제품 주요 기술 매개 변수:

1.이온총: 희토류 자석을 장착한 두 개의 3원 구조 (음극, 양극과 초점극) 패닝 이온총, 초점 이온빔 설계, 고성능 무소모품

2. 광택 각도: +10 ° ~ -10 °, 각 이온총은 독립적으로 조절 가능

3. 이온 빔 에너지: 100V ~ 8.0kV

4. 이온 빔 흐름 밀도: 10mA/cm2 피크

5.광택 속도: 300 μm/h (8.0 kV 조건에서 실리콘 시료의 경우)

6. 샘플 마운트: Ilion 샘플 베젤, 간단한 샘플링, 정확한 재광택 위치, 재사용 가능, Sample Stub와 함께 SEM으로 직접 이동하여 관찰 가능

7.샘플 회전: 0.5 ~ 6rpm 연속 조정 가능

8. 빔 흐름 변조: 이온 빔 변조 기능으로 부채꼴 단면 광택 (부채꼴 각도 10~90도 변조 가능) 및 평면 광택 가능

9. 샘플 관찰: PC 및 Digital Micrograph 소프트웨어를 사용하여 이미지를 수집하는 디지털 줌 현미경, Gatan Digital Micrograph 소프트웨어를 통해 실시간 이미징(300x-2200x) 및 이미지 저장 및 분석 가능

10.액체 질소 냉각대: 액체 질소 냉각대를 배치하고, 샘플 zui 저온도는 -120 ° C에 달하며, 이온 빔이 샘플에 미치는 손상을 효과적으로 감소시킨다

진공 시스템:

11. 건식 펌프 시스템: 2단 분리막 펌프는 80리터/s의 터빈 분자 펌프를 지원합니다.

12.압력: 5x10-6 받침 기본 압력, 8.5x10-5 받침 작업 압력

13. 진공 게이지: 냉음극형, 메인 샘플실에 사용;전급 기계 펌프용 고체형

14.샘플 공기 잠금: Whisperlok 설계, 샘플 교체 시간 <1min, 샘플실 진공 불필요

사용자 인터페이스:

15.10형 터치스크린: 모든 매개변수를 완벽하게 프로그래밍하여 조작할 수 있는 간단한 조작.

16. 조작 모드: 서로 다른 가공 매개 변수 조합을 사용자 정의하여 원키 조작을 실현한다.

주요 제품 활용 분야:

EBSD 샘플 제조

단면 샘플 제조

금속 재료 (합금, 도금)

석유 지질 암석 광물

광전 재료

화공 고분자 재료

신에너지 전지 재료

전자반도체 부품

PCB 회로 버전 단면 광택 SEM 다이어그램

아연도금 강판 단면 포광

Zn 결정 입자

Fe 결정 입자