다상환로 분사 반응 장치

제품 이름: 루프 분사 반응 장치

모델 번호:DCIJL-2-N

다상환로 분사 반응 장치

분사 반응기는 큰 종류의 반응기의 총칭으로, 최근 수십 년 동안 빠르게 발전한 다상 반응기이며, 주로 가스 양상 반응에 사용되며, 촉매 등 부유 입자를 함유한 가스 고체 3상 반응에도 사용될 수 있다.루프 분사 반응 장치는 주로 분사기, 고성능 순환 펌프와 외장 환열기로 루프 분사 반응 시스템을 구성한다.그 반응 원리는 순환하는 액체가 노즐에 의해 가속되고 자흡효과로 인해 대량의 기체를 말아 빨아들이는 것이다.기체는 고속 사류를 통해 격파되어 분사 반응기의 액상 속으로 분산되어 들어가며, 유체의 빠른 흐름과 기포의 방출은 액체 중 전체 반응기 내에 고속 여류를 형성하고, 반응물은 여류가 혼합되어 충돌하여 반응한다.

분사 반응기 내의 기포는 거품 반응기보다 한 단계 작고, 전질 계수는 거품 반응기보다 두 단계 높다.분사반응기구는 기액고3상혼합효과가 좋고 다상전질성능이 좋으며 전열에너지효과가 높고 조작탄성이 높으며 반응기구조가 간단하다는 등 장점이 있어 촉매성능을 충분히 발휘할수 있으며 성능이 우수한 반응기이다.

표1. 주요 가스 반응기 유형

루프 분사 반응 장치에 사용되는 분사기는 일반적으로 단일 노즐의 벤츄리 구조로 많은 *, 우수한 성능이 있습니다.

(1)다상전질성능이 좋고 기액분사로 반응기내의 기액이 격렬하게 혼합되고 기상 (액상) 이 충분히 균일하게 액상 (기상) 에 분산되여 무수한 미소한 기포나 액적이 상간전질계면을 크게 증가시켜 전질계수를 증가시켰다.

(2)열전달 에너지 효율이 높습니다.

(3)밀봉 성능이 좋고 고온 고압 반응에 편리하며 조작 압력은 25MPa에 달하고 조작 상한 온도는 350에 달한다℃；

(4)촉매는 액체 매체에 따라 빠르게 흐르며 촉매 효과가 좋다;

(5)작업 부피가 크고 조작 탄성이 좋으며 반응기 크기는 몇 리터에서 100세제곱미터까지입니다.

(6)반응기는 구조가 간단하고 상대적인 운동부품이 없으며 고장률이 낮고 유지보수가 편리하다.

(7)전질속도와 혼합효과는 반응기 규모에 대한 의존도가 작아 공정 확대에 편리하다;

(8)500cP의 점도를 초과하지 않거나 고함량이 30% 이하인 반응은 모두 이 반응기를 사용하여 실현할수 있는 조건이 까다로운 분야에 사용할수 있다.

(9)용도가 광범위하다.분사반응기는 여러가지 반응류형에 응용할수 있으며 현재 이미 수소첨가반응, 질화반응, 에폭시화반응, 아크릴화반응, 알킬화반응, 아민화반응, 산아크릴화반응, 알킬화반응, 에스테르화반응, 카르보닐기화반응, 술폰화반응 등 여러 분야에 사용되고있다.오수와 페기처리 등 면에서도 일정한 응용이 있으며 기타 고방열, 다상반응분야로 끊임없이 확대되고있다.

다상환로 분사 반응 장치

그림 1 (2.5L 루프 분사 반응 장치)

그림 2 - (10L 루프 분사 반응 장치)

그림 3 - (50L 루프 분사 반응 장치)